美国升级打压华为的手段，致使整个世界半导体行业遭受到影响，国内受到的影响尤为严重！尤其是在美国升级打压华为手段的背景下，台积电宣布赴美建厂，让国人们更为关注中芯国际什么时候能真正的成长起来，扛起中国芯片制造的大量！

我们在关注中芯国际能否购买到荷兰ASML公司最高端的光刻机的时候，国内一家企业突然宣布一重大消息，芯片制造产业链中另一关键部件--光刻胶被成功研制！

光刻胶在芯片制造过程中，他的地位与光刻机一样，非常重要！

我国光刻胶与光刻机一样，都被外企卡脖子，尤其是在高端光刻胶方面，落后外企很多很多，但是，这种光刻胶被“卡脖子”的现象已不复存在，被中国一家名为“南大光电”的企业打破了！

世界最先进的光刻胶技术在日本，以JSR、东京应化等为代表的四家日企，垄断了世界75％的光刻胶市场，美企在光刻胶市场占据13％的份额，而中国企业所占的市场份额不足10%，而且还是中低端市场！

在此之前，我国在高端光刻胶领域是空白的，而日企生产的可用于

28nm到7nm工艺光刻机的光刻胶占据了93％，可见我国发展高端光刻胶的紧迫性。

为了打破日美的垄断，寻求新的突破，国内众多光刻胶研发企业开始全力技术攻关！近日，南大光电终于取得重大突破！

据悉，南大光电研发的可用于7nm光刻机身上的光刻胶已按计划进行客户测试阶段，这意味着我国在高端光刻胶技术上已经“破冰”，不日就可打破日美的垄断！

其实，南大光电在2017年的时候就开始着手研发高端光刻胶，并且获得了国家的项目支持。当时，南大光电的负责人对外表示，将用三年的时间完成该技术的攻关，实现量产，达到年产量25吨的产业规模！

如今，南大光电已经兑现了他当初的承诺，用时不到三年实现了技术上的突破，已经进入产品客户测试阶段，下一步就是光刻胶的量产及销售！我国在半导体领域不断实现技术突破，打破外企的垄断，笔者相信，用不了多久，我国将彻底摆脱外企的束缚，彻底消灭“卡脖子”现象。

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文章来源：《企业科技与发展》 网址: http://www.qykjyfz.cn/zonghexinwen/2021/0425/2181.html